| 加工定制：是 | 品牌：PVA TePla | 型号：IoN 40 |
| 别名：射频去胶机 | 用途：光刻胶灰化，去残胶，干法去胶 | 外形尺寸：775×723×781mm |
| 重量：157kg | 规格：775×723×781 | 工艺气体数：多至6路 |
| 工作真空度：100-2000m tor | 射频电源：风冷，0～600W / 0~1000W |
PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口）
型号：IoN 40 (M4L 升级版)
典型应用：
去除光刻胶 Photo-resist Stripping
表面精密清洁 Surface Precision Cleaning
表面活化 Surface Modification
提高表面粘合性 Bond Strength Enhancements
改变表面亲水性/疏水性 Hydrophilic/Hydrophobic
分子接枝 Molecular Grafting
涂层 Plasma Deposited Coatings
规格参数：
13.56MHz风冷射频电源（0～600w可调，可选0～300W），
高灵敏快速自动匹配功能
铝制腔体，
水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板
多至6路气体，
兼容8英寸及以下晶圆
可选配法拉第桶
可选配压力控制系统
PC工控机控制，运行数据自动存储
触控屏图形化界面
外形尺寸：775×723×781 mm
认证：
CE 认证
EN 61010
EN 61326
Semi E95
ISO 9001
