| 产品特性：立式 | 加工定制：是 | 种类：化合物半导体 |
| 品牌：PVA TePla | 型号：40Q | 特性：去胶，清洗 |
PVA TePla IoN 40Q等离子体去胶机
-Branson IPC 2000/3000的升级款
配置：
37.L抗腐蚀石英腔体，兼容8英寸石英舟
600W SEREN风冷射频电源,具有脉冲模式，可选0-300W,0-1000W功能
反射功率<1.5%的超灵敏的自动匹配系统
高精度不锈钢质量流量计MFC
Swagelok 管路系统
PC-PLC控制系统
Windows 系统触屏工控机
SEMI E95标准互动界面
实时图形显示及数据控制界面
支持SECS / GEM扩展
可选配法拉第桶，刻蚀桶
应用领域
专为化合物半导体、MEMS制造业设计的批量晶圆清洗、去胶机，可用于除胶，去残胶，刻蚀氮化层等
产能
每小时多达60片
批次量
-可装载50片6”、 8”晶圆
晶圆装卸方式
-手动
